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  • 低壓漏電起痕/絕緣材料測(cè)試儀
    低壓漏電起痕/絕緣材料測(cè)試儀

    更新時(shí)間：2025-06-06

    型號(hào)：

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    低壓漏電起痕/絕緣材料測(cè)試儀是在固體絕緣材料表面上，在規(guī)定尺寸（2mm×5mm）的鉑電極之間，施加某一電壓并定時(shí)（30S）定高度（35mm）滴下規(guī)定液滴體積的污染液體（0.1%NH4CL），用以評(píng)價(jià)固體絕緣材料表面在電場(chǎng)和污染介質(zhì)聯(lián)合作用下的耐受能力，測(cè)定其相比電痕化指數(shù)（CT1）和耐電痕化指數(shù)（PT1）。
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  • HCLD-III*電子電工漏電起痕試驗(yàn)機(jī)測(cè)試儀器
    HCLD-III*電子電工漏電起痕試驗(yàn)機(jī)測(cè)試儀器

    更新時(shí)間：2025-06-06

    型號(hào)：HCLD-III

    瀏覽量：1961

    *電子電工漏電起痕試驗(yàn)機(jī)測(cè)試儀器HCLD-III為華測(cè)公司2013年重點(diǎn)科研產(chǎn)品之一，高壓漏電試驗(yàn)儀采用控制系統(tǒng)精度高，擯棄了現(xiàn)有的低壓切斷原原理，采用*的高壓真空切斷技術(shù)，使試驗(yàn)過(guò)程合理。采用5組電流傳感器用以控制每組試驗(yàn)的高壓切斷，使數(shù)據(jù)采集精確，同時(shí)本設(shè)備采用電力系統(tǒng)過(guò)壓過(guò)流保護(hù)裝置，使儀器。
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  • HCLD-III產(chǎn)品*漏電起痕測(cè)試儀器
    HCLD-III產(chǎn)品*漏電起痕測(cè)試儀器

    更新時(shí)間：2025-06-06

    型號(hào)：HCLD-III

    瀏覽量：1967

    產(chǎn)品*漏電起痕測(cè)試儀器HCLD-III采用控制系統(tǒng)精度高，擯棄了現(xiàn)有的低壓切斷原原理，采用*的高壓真空切斷技術(shù)，使試驗(yàn)過(guò)程合理。采用5組電流傳感器用以控制每組試驗(yàn)的高壓切斷，使數(shù)據(jù)采集精確，同時(shí)本設(shè)備采用電力系統(tǒng)過(guò)壓過(guò)流保護(hù)裝置，使儀器an全。
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  • HCLD-III產(chǎn)品*電氣絕緣材料漏電起痕試驗(yàn)機(jī)
    HCLD-III產(chǎn)品*電氣絕緣材料漏電起痕試驗(yàn)機(jī)

    更新時(shí)間：2025-06-06

    型號(hào)：HCLD-III

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    產(chǎn)品*電氣絕緣材料漏電起痕試驗(yàn)機(jī)HCLD-III為華測(cè)公司2013年重點(diǎn)科研產(chǎn)品之一，高壓漏電試驗(yàn)儀采用控制系統(tǒng)精度高，擯棄了現(xiàn)有的低壓切斷原原理，采用*的高壓真空切斷技術(shù)，使試驗(yàn)過(guò)程合理。采用5組電流傳感器用以控制每組試驗(yàn)的高壓切斷，使數(shù)據(jù)采集精確，同時(shí)本設(shè)備采用電力系統(tǒng)過(guò)壓過(guò)流保護(hù)裝置，使儀器an全。
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  • HCLD-III產(chǎn)品*操作簡(jiǎn)單漏電起痕試驗(yàn)機(jī)測(cè)試儀器
    HCLD-III產(chǎn)品*操作簡(jiǎn)單漏電起痕試驗(yàn)機(jī)測(cè)試儀器

    更新時(shí)間：2023-08-29

    型號(hào)：HCLD-III

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    產(chǎn)品*操作簡(jiǎn)單漏電起痕試驗(yàn)機(jī)測(cè)試儀器HCLD-III為華測(cè)公司2013年重點(diǎn)科研產(chǎn)品之一，高壓漏電試驗(yàn)儀采用控制系統(tǒng)精度高，擯棄了現(xiàn)有的低壓切斷原原理，采用高壓真空切斷技術(shù)，使試驗(yàn)過(guò)程合理。采用5組電流傳感器用以控制每組試驗(yàn)的高壓切斷，使數(shù)據(jù)采集精確，同時(shí)本設(shè)備采用電力系統(tǒng)過(guò)壓過(guò)流保護(hù)裝置，使儀器。
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  • HCLD-III可靠漏電起痕試驗(yàn)儀優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品供應(yīng)測(cè)試儀器
    HCLD-III可靠漏電起痕試驗(yàn)儀優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品供應(yīng)測(cè)試儀器

    更新時(shí)間：2025-06-06

    型號(hào)：HCLD-III

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    可靠漏電起痕試驗(yàn)儀優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品供應(yīng)測(cè)試儀器HCLD-III為華測(cè)公司2013年重點(diǎn)科研產(chǎn)品之一，高壓漏電試驗(yàn)儀采用控制系統(tǒng)精度高，擯棄了現(xiàn)有的低壓切斷原原理，采用高壓真空切斷技術(shù)，使試驗(yàn)過(guò)程合理。采用5組電流傳感器用以控制每組試驗(yàn)的高壓切斷，使數(shù)據(jù)采集精確，同時(shí)本設(shè)備采用電力系統(tǒng)過(guò)壓過(guò)流保護(hù)裝置，使儀器an全。
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  • HCLD-III漏電起痕試驗(yàn)儀供應(yīng)測(cè)試儀器
    HCLD-III漏電起痕試驗(yàn)儀供應(yīng)測(cè)試儀器

    更新時(shí)間：2025-06-06

    型號(hào)：HCLD-III

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    漏電起痕試驗(yàn)儀供應(yīng)測(cè)試儀器優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品供應(yīng)測(cè)試儀器HCLD-III采用控制系統(tǒng)精度高，擯棄了現(xiàn)有的低壓切斷原原理，采用高壓真空切斷技術(shù)，使試驗(yàn)過(guò)程合理。采用5組電流傳感器用以控制每組試驗(yàn)的高壓切斷，使數(shù)據(jù)采集精確，同時(shí)本設(shè)備采用電力系統(tǒng)過(guò)壓過(guò)流保護(hù)裝置，使儀器an全。
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  • HCLD-III漏電起痕試驗(yàn)儀 華測(cè)儀器
    HCLD-III漏電起痕試驗(yàn)儀 華測(cè)儀器

    更新時(shí)間：2025-06-06

    型號(hào)：HCLD-III

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    漏電起痕試驗(yàn)儀 華測(cè)儀器HCLD-III采用控制系統(tǒng)精度高，擯棄了現(xiàn)有的低壓切斷原原理，采用高壓真空切斷技術(shù)，使試驗(yàn)過(guò)程合理。采用5組電流傳感器用以控制每組試驗(yàn)的高壓切斷，使數(shù)據(jù)采集精確，同時(shí)本設(shè)備采用電力系統(tǒng)過(guò)壓過(guò)流保護(hù)裝置，使儀器an全。
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